
SISH625DN-T1-GE3 为 VISHAY(威世)出品的一颗 P 沟道场效应管(MOSFET),适合高侧开关与功率管理场合。主要规格如下:
SISH625DN 的 11 mΩ(在 Vgs=4.5 V 下)属于低阻值,适用于大电流开关场合。作为 P 沟道器件,它便于实现高侧开关或退磁/反接保护时的简化驱动:在很多应用中用简单的拉低门极即可打开器件,无需额外升压驱动器。门阈值约 2.5 V(250 µA),表明在接近逻辑电平的驱动下就能开始导通,而在 Vgs=4.5 V 时可达到低导通电阻。
器件标称连续漏极电流 35 A,但在实际应用中需要结合封装热阻与 PCB 散热能力来评估允许的平均电流。以导通损耗为例,若在 35 A 下工作,理想静态导通损耗约为 I^2·RDS(on) = 35^2·0.011 ≈ 13.5 W,这需要非常好的散热路径才能保持在安全结温范围内。器件 Pd=52 W 为最大耗散能力的标称值,但通常是在标准化测试条件与良好散热体系下给出,实际电路中应保守设计并进行热仿真或实测。
Qg=39.5 nC @10 V 与 Ciss=4.427 nF 给出器件的门极开关能量与驱动电流需求。门极充电能量(近似)为 0.5·Ciss·V^2 ≈ 0.5·4.427nF·(10V)^2 ≈ 221 nJ/次。若在 100 kHz 切换频率下,门极驱动功耗约为 Vdrive·Qg·f ≈ 10 V·39.5e-9 C·100e3 Hz ≈ 39.5 mW,门极平均电流约为 Qg·f ≈ 3.95 mA。Crss=430 pF 表明 Miller 效应在快速跃变时不可忽视,必须配合合适的驱动阻抗与斜率控制,以避免过大的过渡损耗或电压振铃。
PowerPAK1212-8SH 提供了较低的热阻与小体积优势,适合空间受限但需高功率密度的设计。建议:
总结:SISH625DN-T1-GE3 在 30 V 档位提供了低 RDS(on) 与较高持续电流能力,封装利于紧凑布局,是高侧开关与功率管理的良好选择。合理的门极驱动与热设计是发挥其性能的关键。